Książki

Album "Fotografie" Jerzego Soińskiego, wdany przez Miejskie Centrum Kultury w Ostrowcu Świętokrzyskim w 2026 roku, przy okazji wystawy. Książka to pozycja...

Album fotografii "Obraz i Dźwięk" według pomysłu Tomka Sikory i Artura Wolskiego, w którym obok fotografii Tomka Sikory pojawiają się - zapis nut i muzyka...

Kalendarz wystaw

Ładowanie kalendarza

ZPAF Okręg Pomorski oraz Muzeum Piśmiennictwa i Muzyki Kaszubsko-Pomorskiej w Wejherowie zapraszają 7 listopada 2026 roku, godz. 18.00 na wyjątkową zbiorową wystawę fotografii "Z upływem czasu"...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż07-11-26 18:00
  • Miejsce wystawyMuzeum Piśmiennictwa i Muzyki Kaszubsko-Pomorskiej
  • Wejherowo

Pszczyńskie Centrum Kultury w Pszczynie zaprasza w piątek 3 listopada 2026 roku, o godz. 18.00 na wernisaż zbiorowej wystawy fotografii "5 Perspektyw" członków Grupy Fotograficznej Wtajemniczenia....

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż03-11-26 18:00
  • Miejsce wystawyPszczyńskie Centrum Kultury
  • Pszczyna

ZPAF Okręg Śląski zaprasza 4 listopada 2026 roku, o godz. 18.30  do Galerii Katowice ZPAF w Katowicach na wernisaż wystawy fotografii Piotra Tomczyka "Organiczność i geometria". Wystawa potrwa do 27...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż04-11-26 18:30
  • Miejsce wystawyGaleria Katowice ZPAF
  • Katowice

Zagłębiowskie Centrum Kultury w Sosnowcu zaprasza w środę 28 października 2026 roku, o godz. 18.00 do Galerii na Drugim Piętrze na wernisaż zbiorowej wystawy fotografii "Wakacje dzień po dniu"...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż28-10-26 18:00
  • Miejsce wystawyZagłębiowskie Centrum Kultury
  • Sosnowiec

Zamojska Akademia Kultury w Zamościu zaprasza 29 października 2026 roku, o godz. 17.00 do Galerii Fotografii AZ na wernisaż wystawy fotografii Artura Dziwirka, Andrzeja Kosikowskiego, Katarzyny...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż29-10-26 17:00
  • Miejsce wystawyGaleria Fotografii AZ
  • Zamość

Muzeum Współczesne we Wrocławiu zaprasza 30 października 2026 roku, o godz. 19.00 na wernisaż zbiorowej dorocznej wystawy fotografii "Rzeczywistość Symultaniczna" członków Okręgu Dolnośląskiego...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż30-10-26 19:00
  • Miejsce wystawyMWW Muzeum Współczesne
  • Wrocław

Galeria Obok ZPAF w Warszawie zaprasza 29 października 2026 roku, o godz. 18.00 na wernisaż wystawy fotografii "W świecie z dwoma księżycami śni się inaczej…" Grupy Twórczej AKAMA. Wystawa potrwa do...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż29-10-26 18:00
  • Miejsce wystawyGaleria Obok ZPAF
  • Warszawa

Białostocki Ośrodek Kultury zaprasza 28 października 2026 roku, o godz. 18.30 do Klubu Fama w Białymstoku na wernisaż wystawy fotografii Izy Ostapowicz "W trasie". Wystawa potrwa do 29 listopada...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż28-10-26 18:30
  • Miejsce wystawyKlub Fama
  • Białystok

Galeria Pusta cd w Jaworznie zaprasza 28 października 2026 roku, o godz. 18.00 na wernisaż wystawy fotografii Joanny Chrząszcz "Pocztówki z Wenecji". Wystawa potrwa do 25 listopada 2026 roku. Wstęp...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż28-10-26 18:00
  • Miejsce wystawyGaleria Pusta cd
  • Jaworzno

Stara Galeria ZPAF w Warszawie zaprasza 29 października 2026 roku, o godz. 19.00 na wernisaż wystawy zbiorowej fotografii "Topniejąca rzeczywistość". Wystawa potrwa do 3 stycznia 2027 roku. Wstęp...

Gdzie i kiedy
  • Wernisaż29-10-26 19:00
  • Miejsce wystawyStara Galeria ZPAF
  • Warszawa
Fujifilm GF 45-100mm f/4 R LM OIS WR
|||

Firma Fujifilm przedstawiła nowy obiektyw o zmiennej ogniskowej FUJINON Lens GF45-100F4 R LM OIS WR który jest przeznaczony do średnioformatowego systemu bezlusterkowego GFX. Obiektyw trafi on do sprzedaży z końcem lutego 2020 roku..

Nowy obiektyw dołącza do istniejącej już rodziny wymiennych obiektywów GF, zaprojektowanych dla serii GFX i obejmuje jedne z najczęściej używanych przez fotografów ogniskowych. Obiektyw GF45-100 mm F4 R LM OIS WR odpowiada zakresowi ogniskowej 36-79 mm dla małoobrazkowego formatu 35 mm, przy maksymalnej wartości przysłony F4. Doskonale uzupełnia asortyment obiektywów o zmiennej ogniskowej GF: GF32-64 mm F4 R LM WR oraz GF100-200 mm F5.6 R LM OIS WR. Taki zestaw obiektywów zapewnia fotografom szeroki zakres ogniskowych, umożliwiając fotografowanie w wielu różnych tematach fotograficznych, co pozwala na jeszcze większą wszechstronność i kreatywność.

Obiektyw GF45-100 mm F4 R LM OIS WR stanowi połączenie solidnej konstrukcji z wysokiej jakości optyką. Jest niezwykle wszechstronny i idealnie nadaje się do fotografowania przyrody, krajobrazów oraz portretów. Wyposażony jest w potężną 5-osiową stabilizację obrazu, element Super ED i niemal bezgłośny, szybki silnik autofocusa. Sprawdza się w trudnych i nieprzewidywalnych sytuacjach, dzięki odpornej na kurz i warunki pogodowe konstrukcji, która pozwala na pracę w temperaturze do -10 stopni Celsjusza. Wysoka rozdzielczość i piękny efekt bokeh pozwolą na uchwycenie atmosfery każdej sceny, przedstawiającej dowolny obiekt.

Charakterystyka produktu

  • Zadziwiająca rozdzielczość obrazu i szeroka rozpiętość tonalna GF45-100 mm F4 R LM OIS WR składa się z 16 elementów w 12 grupach, w tym z trzech elementów asferycznych, jednego elementu Super ED i jednego elementu ED, co pozwala na skorygowanie aberracji sferycznej, krzywizny pola i aberracji chromatycznej. Minimalizuje to konsekwencje różnych form aberracji, takich jak przesunięcie luminancji i efekt "rozlania koloru" (ang. „color bleeding”), zapewniając zdumiewającą ostrością obrazu.
  • Lekki i kompaktowy, standardowy obiektyw o zmiennej ogniskowej GF45-100 mm F4 R LM OIS WR waży 1,005 g, przy długości 144,5 mm i średnicy 93 mm). Jest niezwykle poręczny i kompaktowy jak na 2,2-krotny zoom dla systemu kamer wielkoformatowych.
  • Szybki, cichy i bardzo dokładny autofocus Zastosowanie wewnętrznego systemu ustawiania ostrości zmniejszyło rozmiar i wagę soczewki ogniskowania. Napędzana jest ona silnikiem liniowym, co pozwala na szybkie, ciche i wyjątkowo dokładne działanie AF.
  • Doskonała stabilizacja obrazu Obiektyw wyposażony jest w pięciostopniową stabilizację obrazu (wytyczne CIPA). Daje to fotografom możliwość pełnego wykorzystania mocy przetwornika wysokiej rozdzielczości w aparacie systemowym GFX, zwłaszcza w trakcie robienia zdjęć „z ręki”.
  • Wyjątkowo solidna konstrukcja odporna na różne warunki fotografowania Obiektyw ma 11 uszczelek chroniących przed kurzem i warunkami atmosferycznymi. To pewność spokojnej pracy w trudnych warunkach, nawet w temperaturze -10 stopni Celsjusza.

Do budowy obiektywu wykorzystanie 16 elementów ułożonych w 12 grupach, w tym trzech elementów asferycznych, jednego elementu Super ED i jednego elementu ED

Sorry, this website uses features that your browser doesn't support. Upgrade to a newer version of Firefox, Chrome, Safari, or Edge and you'll be all set.